磁流体密封装置  
  为单晶硅炉、镀膜设备、化学气相沉积、液晶再生、电子指示器、热处理炉等超高真空系统及对环境要求较高的设备提供优质磁流体密封件。高压磁流体密封件已开发成功。《磁流体密封装置》专利号ZL01238583.2  
  高适应性:从低速到高速,从低压到高压, 从室温到高温,均能满足各种设备的要求。  
  高性能:极限真空度10-6Pa.泄漏率10-12 Pa·m3/sec 长寿命:无磨损,具有极佳的工作 可靠性
   
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